
日(rì)本KETT渦流膜(mó)厚儀(yí)LH-200J
簡(jiǎn)要描(miáo)述:
LH-200J非磁性金(jīn)屬(shǔ)上的(dí)目標絕(jué)緣(yuán)膜測(cè)量範圍0至(zhì)800µm或32.00mils測量精(jīng)度小(xiǎo)於(yú)50µm±1µmLH-373測量目標非(fēi)磁性金(jīn)屬(shǔ)上(shàng)的絕緣塗層測(cè)量(liáng)範圍0至(zhì)1200 µm或47.0 mils測量精度(dù)小於(yú)50 µm±1 µm 50 µm以上(shàng)且小於(yú)1000 µm±2%1000 µm以上(shàng)±3%分(fēn)辨(biàn)率小於(yú)100 µm 0.1微米.日本(běn)KETT渦(wō)流膜厚儀LH-200J
產(chǎn)品型(xíng)號:LH-373
產(chǎn)品時(shí)間(jiān):2025-05-18
日本(běn)KETT渦(wō)流(liú)膜(mó)厚儀(yí)LH-200J
| 型號(hào) | LH-200J | |
| 測量方式 | 渦流(liú)類型(xíng) | |
| 測量目標 | 非(fēi)磁性金屬(shǔ)上(shàng)的(dí)絕緣塗(tú)層(céng) | |
| 測(cè)量範(fàn)圍(wéi) | 0-800µm或32.00mils | |
| 測量精(jīng)度 | 小(xiǎo)於50μm | ±1微(wēi)米 |
| 50μm以上(shàng) | ±2% | |
| 解像度 | 小於(yú)100μm | 0.1微(wēi)米 |
| 100μm以(yǐ)上 | 1.0微米(mǐ) | |
| 符合(hé)標準(zhǔn) | JIS K5600-1-7,JIS H8680-2,JIS H8501 ISO2808,ISO2360,ISO2064,ISO19840 BS3900-C5,ASTM D7091-5 | |
| 統計功(gōng)能 | 測(cè)量(liáng)數(shù)量,平(píng)均值(zhí), 大/小標準偏差,程序(xù)段(duàn)號 | |
| 探針 | 一(yī)點接(jiē)觸(chù)恒(héng)壓(yā)型(LHP-J) | |
| 顯示方式 | 數(shù)字(zì)(LCD,小顯(xiǎn)示數(shù)字為(wéi)0.1µm) | |
| 外部(bù)輸(shū)出 | RS-232C接口(傳(chuán)輸速(sù)度(dù)2400bps) | |
| 電(diàn)源供(gōng)應 | 100 V AC(50/60 Hz)或 1.5 V電池(AA鹼(jiǎn)性)x 6打(dǎ)印(yìn)機x 4 | |
| 尺(chǐ)寸(cùn)圖(tú) | 120mm(寬(kuān))×250mm(深)×55mm(高) | |
| 彌(mí)撒 | 1.0公斤 | |
| 配(pèi)件(jiàn)類(lèi) | 標(biāo)準板,鋁基板,標(biāo)準板盒 電(diàn)池1.5V(AA鹼(jiǎn)性(xìng)),探(tàn)頭(tóu)適(shì)配(pèi)器 交流適配器(qì),打(dǎ)印機(jī)紙(zhǐ),手提(tí)箱 | |
日本(běn)KETT渦(wō)流(liú)膜厚(hòu)儀LH-200J
■規格(gé)型號LH-200J測量(liáng)方法渦(wō)流法(fǎ)測量非磁(cí)性金屬上的目(mù)標絕(jué)緣膜(mó)測量範(fàn)圍(wéi)0至800µm或(huò)32.00mils測(cè)量精(jīng)度小於50µm±1µm 50µm ...
0R規格型號(hào)LH-373測量方法(fǎ)渦流法測(cè)量(liáng)目標非(fēi)磁性(xìng)金屬(shǔ)上的絕(jué)緣塗層測量範圍0至1200 µm或47.0 mils測(cè)量精度(dù)小(xiǎo)於(yú)50 µm±1 µm 50 µm以上且(qiě)小於1000 µm±2%1000 µm以上±3%分辨(biàn)率(shuài)小於100 µm 0.1微米(mǐ)...


打(dǎ)印當前(qián)頁